中国科研机构发明新型激光直写光刻机
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中国科研机构发明新型激光直写光刻机
4月10日，浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室在杭州发布重磅成果：成功研发万通道3D纳米激光直写光刻机，为超分辨光刻、光子芯片制造等领域提供关键技术支撑。 双光子激光直写技术，凭借高分辨率、真三维加工等优势，是微纳加工前沿方向 ...
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